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原位芯片生产的同步辐射/SEM氮化硅膜窗格由先进的微电子工艺打造，可用于微纳米样品观测。采用低应力技术（＜250MPa）形成的氮化硅膜强度高，膜面平整，膜厚均匀一致，有较高的X-射线透射性，非常适用于高温（～1000℃）实验以及不同压力环境的测试。此款窗格提供三种不同外框尺寸（5mm，7.5mm，10mm）以供选择，硅衬底厚度均为200µm。
原位芯片生产的TEM氮化硅膜窗格由先进的微电子工艺打造，可用于微纳米样品高分辨电镜观测。此款窗格为3mm外径的八边形，适用于所有TEM样品杆。氮化硅膜采用低应力技术（＜250MPa），氮化硅膜薄透且不易破损，非常适合于前沿的科学研究。
原位芯片是目前全球为数不多的有能力制造原位液体芯片的制造商。原位芯片目前可以提供用于透射电子显微镜，同步辐射及扫描电子显微镜的原位液体芯片，可实现液体环境下实时动态观测，包括纳米材料、细胞、病毒多种样品的形貌、状态以及物质间一系列化学反应等。
可实现在TEM或SEM内液体环境下实时动态观测，包括纳米材料、细胞、病毒多种样品的形貌、状态以及物质间一系列化学反应等。
Lin Zhang, Baojun Lin, Bo Hu, Xianbin Xu, and Wei Ma
Advance Material丨 Volume 30, Issue 22
徐挺 王嘉星 梁瑜章
发明专利 丨 申请号201710101902.8
Yuzhen Lv ， Yang Ge, Zhen Sun , Qian Sun , Meng Huang, Chengrong Li ,Bo Qi ,Jinsha，Yuanand Zhaoliang Xing
Nanomaterials
Jiye Fu, Yi Qiao, Hang Song, Zheyun Xu, Jing Tu , Long Ba and Zuhong Lu
Nanotechnology
Meijiao Zhao, Yanhuan Liu, and Bin Su
Analytical Chemistry